鑽石研磨液
本研磨液能在研磨盤上形成一層薄膜，除了提供潤滑作用及協助鑽石微粉平均分布在盤面上外，也可防止元件乾磨而損壞。
1.具良好的分散穩定性，能保持長時間不沉降，粉體不易發生團聚，且磨削效率高，加工件表面粗糙度低，工件表面殘留顆粒少。
2.洗淨清除容易，不易殘留。
3.適用於對表面光潔度要求高的物料及元件，應用範圍包括光電產品、陶瓷、金屬物料及半導體基盤（substrates）等。
SiO2拋光液
1.良好的分散穩定性， 不易沉澱， 使用壽命長。
2.粒徑分布窄，不易造成刮傷，且雜質含量低。
3.易清洗，不會殘留在晶片上。
4.無毒、無環境荷爾蒙亦不含溶劑、無VOC等環保問題。
5.可用於半導體、光電半導體材料，例如矽晶圓、碳化矽晶圓、藍寶石晶圓、砷化鎵晶圓、氮化鎵晶圓、藍寶石基板、精密光學元件…等的拋光。
接合用蠟(固、液態)
1.流動性及黏著力佳。
2.對環境危害性小。
3.用溫水、鹼性溶劑、丙酮、異丙醇等液體皆可輕易的進行清洗，可縮短作業時間及清洗的流程。
4.適用於陶瓷基板、藍寶石基板等高精度之切削、研磨製程中的接著。
5.可針對客戶的需求進行客製化。
藍寶石基板洗淨劑(2-0020)
對藍寶石晶圓研磨、切割後表面所附著之有機物與粉塵的清洗性佳。
另外對其他電子精密部品等表面附著之加工油、切削油之洗淨，搭配超音波、浸漬、噴洗方式清洗之後，效果亦佳。
藍寶石基板洗淨劑(2-3016)
藍寶石基板洗淨劑可洗淨研磨後藍寶石基板上之污點，同時具有增加基板白度並賦予光澤性功能。亦可適用於藍寶石基板拋光後洗淨。